【本報台北訊】「中華民國國際版畫雙年展」即日起在國立台灣美術館登場，今年是第十四屆國際版畫雙年展，來自四十九個國家，百餘名藝術家的版畫作品參展，展期至七月十八日。

國美館長黃才郎表示，今年收到來自六十九個國家、一千四百二十三件作品，經過波蘭的楊波牧樂、俄羅斯安德烈馬提諾夫、韓國吳光洙，及國內知名版畫家廖修平、藝評家謝里法評選後，選出四十九個國家、共兩百零二件入選作品，其中金牌獎是日籍藝術家久後育大的「刻痕70」，評審團認為這件木刻版畫，套色層次效果搶眼，畫面因雕刀刻痕而展現動感，有音樂之美。

由於台灣、日本因地緣關係，國際版畫雙年展長期獲得日本藝術家支持，不但連續多屆蟬聯送件數最多的國家，且有三十一位日本藝術家獲獎，因此，國美館今年同步推出「版．印：日本版畫主題展」，三十位藝術家、五十八件作品，展覽以「社會‧文化」、「環境‧生命」、「材質‧心象」、「塗鴉‧流動」、「寫實‧超現實」五大議題，展現歷年獲獎的日本得獎者作品精華，展期至八月二十九日。