【本報綜合外電報導】美國專利商標局國家發明獎名人堂今年入選者頒獎典禮，二日在山景城「電腦歷史博物館」舉行。Alcatel Lucent貝爾實驗室半導體研究副總裁、我中央研究院院士卓以和，成為今年唯一華裔獲獎科學家，他也是繼個人電腦先驅王安後，第二位入此名人堂的華裔人士。

由於今年是積體電路發明五十周年，包括卓以和在內十五位名人堂獲獎者都是半導體相關領域，有傑出貢獻人士。英特爾共同創辦人葛洛夫今年榮獲終身成就獎。

卓以和表示，能獲得入選國家發明獎名人堂，是一項非常高的榮譽，對此他感到非常榮耀。他指出，國家發明獎不是由公司或私人提名，而是華府的美國專利商標局提名，代表對於獲獎者在提高人類科學技術水平所作貢獻的認可，他感到很自豪。

在談到自己成功的原因，卓以和表示，成功的秘訣在於百分之八十努力，加上百分之二十的機會和靈感，要把工作當成樂趣才有成功的希望。此外，他表示，自己有幸在貝爾實驗室這樣的權威機構工作，能經常和許多非常聰明的工程師相互交流，又有長期穩定的研究經費，這些都是成功的重要條件。

卓以和以發明分子束磊晶聞名，被尊稱為「束磊晶之父」。此項技術能讓有序材料以單原子層為單位進行生長，可用於生產與電子時代密切相關的高端設備，令半導體技術產生重大改變。

卓以和一九三七年出生於北京，一九五五年赴美留學，一九六八年獲伊利諾大學博士學位，是美國電子電機工程學院、美國藝術及科學學院資深院士、美國國家工程院院士、國家科學院院士、台灣中央研究院院士、中國科學院外籍院士。