【本報綜合外電報導】古巴首都哈瓦那舉行每兩年一度的大型國際藝術展覽會，今年邀請了一批美國藝術家參展。這是自從一九五九年古巴爆發革命、長期與美國為敵以來，首次有美國藝術家參加這項盛會。

此屆哈瓦那國際藝術展已經是第十屆，命名為「切爾西造訪哈瓦那」。切爾西（Chelsea）是紐約一個著名藝術區的名稱。展覽會上共展出三十三名美國藝術家的三十九件作品，這些作品來自於二十八間紐約博物館和畫廊內。

藝術展的主辦者馬尼昂說：「這是在古巴展出的最大規模的美國藝術作品。」馬尼昂是古巴人，但五歲的時候已經逃出自己的國家，到美國定居，現時他在紐約切爾西區開了一間畫廊。

他指出，這次藝術展共花了兩年半時間籌備，希望藉著這個機會，推動美國和古巴改善關係。

今屆國際藝術展共展出四十個國家和地區二百多位藝術家的作品，於上周五正式揭幕，一直展出至五月十七日。十五位美國藝術家和畫廊東主應邀親自前往哈瓦那，出席這項盛會。