【本報綜合外電報導】荷蘭曝光機巨頭艾司摩爾（ASML）執行長福克（Christophe Fouquet）近日警告稱，限制曝光機出口中國大陸市場，反而加速大陸自主研發替代設備的步伐。他形容，這是「存亡問題」。福克呼籲，針對晶片製造設備銷往大陸制定更為一致的規則。

美國國會4月提出《硬體技術多邊協調管制法案（MATCH法案）》，要求荷蘭和日本等盟友遵守美國出口管制措施，防止大陸獲取先進晶片製造設備。這項法案在現行極紫外光（EUV）機對大陸全面禁售的基礎上，將浸潤式深紫外光（DUV）機等設備也納入全面限制。

福克說，艾司摩爾目前向大陸出售的DUV設備，本身就是基於2015年的技術，為8代之前的晶片技術；如果進一步收緊限制，只會加速大陸自主研發替代設備的步伐。

他比喻說：「如果我將你放到沙漠裡，告訴你今後再也沒有食物來源了，你需要多久才開墾出自己的菜園？這是存亡的問題。」