【本報台北訊】環保署於今（18）日預告「半導體製造業空氣汙染管制及排放標準」修正草案，以「務實、自主及簡化」三大重點進行研修，增訂排放濃度標準及檢討監檢測規範，爰訂定個別排放管道濃度標準取代過去全廠排放量之管制方式，強化排放管道自主監測及簡化定期檢測規範，同時兼顧空汙防制管理，落實簡政便民。

鑑於半導體製造業等高科技產業蓬勃發展，關注衍生之環境保護課題更顯其重要性，為使環境保護與產能管理更具彈性，同時督促新建廠房應選擇汙染排放較低之設備，本標準修正不分規模的全廠總排放量管制方式，改以個別排放管道濃度規範並增訂新設製程排放標準，提升主管機關之查核及業者自主管理作業之便利性。

另外，本標準配合2022年6月6日公告訂定「公私場所應定期檢測及申報之固定汙染源」簡化整合空汙法涉檢測相關規定，亦針對排放濃度高且易致汙染之虞者，規範應設置相關排放監測器以強化自主管理。

環保署表示，本標準自1999年1月6日發布施行後，已從技術觀點直接管制其製程空氣汙染物之排放，奠定對半導體產業空汙防制有效管理之基礎，期間多項規定雖經修正，惟迄今相關規範已屆十餘年未檢討，爰針對本標準內容進行檢討及修正，提升當前空氣汙染防制現況與管理機制。

同時，考量產業特性調整「公私場所應定期檢測及申報之固定汙染源」檢測期間規範。

透過本次修法，除落實簡政便民原則，並使半導體產業之空汙防制管理更臻完備，創造環境保護與產業發展運作共利效益。

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